Macchina per wafer PVI SAS-100 Gen 3.5 Venditore verificato

Marca PVI
Modello SAS-100 Gen 3.5
Anno 2011
Ubicazione Taiwan TW
Categoria Semiconduttori - Macchine per wafer
Numero del prodotto P210310009

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In merito a questo venditore Venditore verificato

Tipo di cliente Rivenditore
Attivo dal 2021
Offerte online 26
Ultima attività 13 Aprile 2021

Specifiche tecniche

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Lunghezza x larghezza x altezza 4780,0 × 4200,0 × 3500,0
Peso 4000 kg
Ore effettuate
Ore allacciato alla corrente
Condizione buono
Conforme alle norme CE si
Stato imballato

Descrizione

Sistema di diffusione termica usato

> Temperatura di funzionamento: Maxima 650 ℃

> Gruppi riscaldatori :.
I riscaldatori IR di tipo a resistenza 1,24 comprendono il diametro esterno di
camera di processo.
2. 24 sezioni del riscaldatore sono organizzate in 10 zone calde separate che
può essere programmato individualmente per mantenere l'uniforme all'interno
temperatura.
3. Il PLC converte i segnali di temperatura di tipo K nel loop PID.

> Sistema di controllo: il sistema è dotato di un PLC dedicato collegato in rete al
computer PC di controllo principale.

> Camera al quarzo: quarzo opaco OD: 980 mm ID: 960 × 2000 mm

> Sistema per vuoto: pompa per vuoto a secco


Caratteristiche della camera di processo:
1. Gruppo del tipo a campana con un'estremità formata a forma di cupola.
2. Posizionato in un alloggiamento di contenimento secondario che si monta sul supporto del sistema
telaio.
3. Include pompe per vuoto a secco dedicate, manometri e relative apparecchiature.
4. Il sistema è progettato e prodotto per avere un alto grado di affidabilità, sicurezza,
e flessibilità per future modifiche al sistema.
5. Il telaio di supporto e l'alloggiamento di contenimento secondario che contiene il quarzo
le camere sono state progettate per essere facilmente installate.
6. Il sistema è progettato per consentire la manutenzione primaria da parte di ciascuno
lato del telaio del sistema.
7. I sistemi termici sono progettati per diffusione, applicazioni CVD.

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