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Applied Microstructures Inc MVD 100 P220211584
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Macchina per wafer Applied Microstructures Inc MVD 100 Venditore verificato

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Marca Applied Microstructures Inc
Modello MVD 100
Anno
Ubicazione Stati Uniti US
Categoria Semiconduttori - Macchine per wafer
Numero del prodotto P220211584
Lingua
bg Applied Microstructures Inc MVD 100
cs Waferovací stroj Applied Microstructures Inc MVD 100
da Applied Microstructures Inc MVD 100
de Applied Microstructures Inc MVD 100 Waferanlage
el Applied Microstructures Inc MVD 100
en APPLIED MICROSTRUCTURES INC MVD 100
es Máquina para wafer Applied Microstructures Inc MVD 100
fr Machine pour wafer Applied Microstructures Inc MVD 100
hr Applied Microstructures Inc MVD 100
hu Applied Microstructures Inc MVD 100
it Macchina per wafer Applied Microstructures Inc MVD 100
lt Applied Microstructures Inc MVD 100
nl Applied Microstructures Inc MVD 100
pl Maszyna do produkcji płytek półprzewodnikowych Applied Microstructures Inc MVD 100
pt Applied Microstructures Inc MVD 100
ro Applied Microstructures Inc MVD 100
ru Applied Microstructures Inc MVD 100 Пластина
sr Applied Microstructures Inc MVD 100
sv Applied Microstructures Inc MVD 100
tr Wafer Makinası Applied Microstructures Inc MVD 100
MICROSTRUTTURE APPLICATE INC MVD 100
L'MVD 100 è uno strumento utile per depositare monostrati di organosilani. Può essere utilizzato per creare superfici altamente idrofobiche, superfici antivegetative e superfici biofunzionalizzate. Un elenco dei processi di deposizione monostrato utilizzati nel sistema è disponibile sulla pagina web dello strumento.

Il funzionamento del sistema è abbastanza semplice. Lo strumento possiede una camera di reazione e 3 linee di erogazione del vapore. La linea 1 è dedicata al vapore acqueo che viene utilizzato in alcuni processi come catalizzatore. La linea 2 è dedicata agli APTMS a causa dei problemi di contaminazione incrociata. La linea 3 viene quindi utilizzata per tutti i rimanenti organosilani. Ogni linea è dotata di una sorgente di liquido, un volume di espansione collegato a un manometro e una serie di valvole di controllo. Durante un ciclo di riempimento del vapore, la valvola 1 si apre mentre la valvola 2 è chiusa consentendo al vapore di fluire dalla sorgente al volume di espansione. Una volta raggiunta una pressione specificata, la valvola 1 si chiude. A questo punto la valvola a farfalla si chiude e la valvola 2 si apre, consentendo al vapore di fluire nella camera di reazione. Il vapore rimane nella camera per un determinato periodo di tempo e poi viene pompato via. Allo strumento è inoltre collegata una sorgente di plasma O2 per la preparazione della superficie.

Si avvisa che la descrizione puo´ esser stata tradotta automaticamente. Ci contatti per ulteriori informazioni. Le informazioni di questo annuncio classificato sono solo indicative. Exapro consiglia di verificare i dettagli con il venditore prima dell' acquisto

-------------------
Ore effettuate
Ore allacciato alla corrente
Condizione buono
Conforme alle norme CE ---------
Stato
Tipo di cliente Consulente
Attivo dal 2021
Offerte online 1142
Ultima attività 16 Aprile 2024

Descrizione

MICROSTRUTTURE APPLICATE INC MVD 100
L'MVD 100 è uno strumento utile per depositare monostrati di organosilani. Può essere utilizzato per creare superfici altamente idrofobiche, superfici antivegetative e superfici biofunzionalizzate. Un elenco dei processi di deposizione monostrato utilizzati nel sistema è disponibile sulla pagina web dello strumento.

Il funzionamento del sistema è abbastanza semplice. Lo strumento possiede una camera di reazione e 3 linee di erogazione del vapore. La linea 1 è dedicata al vapore acqueo che viene utilizzato in alcuni processi come catalizzatore. La linea 2 è dedicata agli APTMS a causa dei problemi di contaminazione incrociata. La linea 3 viene quindi utilizzata per tutti i rimanenti organosilani. Ogni linea è dotata di una sorgente di liquido, un volume di espansione collegato a un manometro e una serie di valvole di controllo. Durante un ciclo di riempimento del vapore, la valvola 1 si apre mentre la valvola 2 è chiusa consentendo al vapore di fluire dalla sorgente al volume di espansione. Una volta raggiunta una pressione specificata, la valvola 1 si chiude. A questo punto la valvola a farfalla si chiude e la valvola 2 si apre, consentendo al vapore di fluire nella camera di reazione. Il vapore rimane nella camera per un determinato periodo di tempo e poi viene pompato via. Allo strumento è inoltre collegata una sorgente di plasma O2 per la preparazione della superficie.

Si avvisa che la descrizione puo´ esser stata tradotta automaticamente. Ci contatti per ulteriori informazioni. Le informazioni di questo annuncio classificato sono solo indicative. Exapro consiglia di verificare i dettagli con il venditore prima dell' acquisto

Specifiche tecniche

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Ore effettuate
Ore allacciato alla corrente
Condizione buono
Conforme alle norme CE ---------
Stato

In merito a questo venditore

Tipo di cliente Consulente
Attivo dal 2021
Offerte online 1142
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