Macchina per wafer Applied Materials Endura II Liner/Barrier Venditore verificato

Marca Applied Materials
Modello Endura II Liner/Barrier
Anno 2006
Ubicazione Irlanda IE
Categoria Semiconduttori - Macchine per wafer
Numero del prodotto P01118033

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In merito a questo venditore Venditore verificato

Tipo di cliente Rivenditore
Attivo dal 2010
Offerte online 67
Ultima attività 12 Aprile 2021

Specifiche tecniche

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Ore effettuate
Ore allacciato alla corrente
Condizione buono
Conforme alle norme CE si
Stato visibile

Descrizione

Materiali applicati Endura II Liner / Barrier PVD (Physical Vapour Deposition)
Attualmente configurato per wafer da 300 mm
Data MFG: gennaio 2006
DETTAGLI DELL'ATTREZZATURA:
Lo strumento sta funzionando in camera bianca.
UN DISCO RIGIDO VERRÀ RIMOSSO DALLO STRUMENTO.
[Camera 2]
Per camera Ti PVD
DCPS; OPTIMA DCG-200, ENI, per PVD
POMPA / CRYO, OBIS, HELIX
Tavolino tipo HT ESC

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