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Macchina di semiconduttori ANNEALSYS AS-Micro Miglior venditore Ottimi affari

28.000 €

Marca ANNEALSYS
Modello AS-Micro
Anno 2017
Ubicazione Francia FR
Categoria Semiconduttori - Vari
Numero del prodotto P230323112
Lingua
bg ANNEALSYS AS-Micro
cs Polovodičový stroj ANNEALSYS AS-Micro
de ANNEALSYS AS-Micro Sondere Halbleiter Maschine
en ANNEALSYS AS-Micro Semiconductor machine
es Máquina semiconductor ANNEALSYS AS-Micro
fr Four RTP ANNEALSYS AS-Micro de 2017 + pompe + ordinateur
hr ANNEALSYS AS-Micro
hu ANNEALSYS AS-Micro
it Macchina di semiconduttori ANNEALSYS AS-Micro
nl ANNEALSYS AS-Micro
pl Maszyna do półprzewodników ANNEALSYS AS-Micro
pt ANNEALSYS AS-Micro
ru ANNEALSYS AS-Micro Оборудование для полупроводников
tr Yarı İletken Makinası ANNEALSYS AS-Micro
Forno RTP ANNEALSYS AS-Micro del 2017 + pompa + computer

Condizione perfetta. Data del 2017.
Consegnato con:
- Pompa per vuoto e pompa di evacuazione Agilent IDP3A01
- controllare computer, software e codice utente.
- Manuale



L'AS-Micro è un processore termico da banco compatto da tre pollici con capacità di vuoto dedicato alle applicazioni di ricerca. Può lavorare substrati da pochi millimetri quadrati fino a 3 pollici di diametro o quadrato. Sono disponibili suscettori opzionali per contenere piccoli campioni e per processare substrati con basso assorbimento infrarosso.

La camera di lavorazione del tubo di quarzo con flange in acciaio inossidabile e un forno tubolare con lampade alogene a infrarossi consente di lavorare fino a 1250°C con velocità di rampa molto elevate (> 250°C/s). Il regolatore di temperatura all'avanguardia garantisce un controllo preciso della temperatura.

La porta a movimento orizzontale con vassoio in quarzo offre un facile accesso per il carico e lo scarico dei wafer e l'installazione della termocoppia.

Caratteristiche
Il forno offre la massima velocità di rampa fino a 250°C/s per wafer da 2".
Intervallo di temperatura: RT a 1250°C
Velocità di rampa fino a 250°C/s su substrato di silicio di 2 pollici di diametro, 200°C/s su substrato di 3 pollici.
Capacità di miscelazione del gas con controllori di flusso di massa
Intervallo di vuoto: da Atm a 10-2 Torr (10-6 Torr con pompa turbo opzionale)
Controllo della temperatura della termocoppia con regolatore di temperatura PID digitale veloce
Controllo completo del PC con software compatibile con Windows

per laboratorio di elettrochimica e nanomateriali semiconduttore/semiconduttore/wafer

Si avvisa che la descrizione puo´ esser stata tradotta automaticamente. Ci contatti per ulteriori informazioni. Le informazioni di questo annuncio classificato sono solo indicative. Exapro consiglia di verificare i dettagli con il venditore prima dell' acquisto

-------------------
Ore effettuate
Ore allacciato alla corrente
Condizione buono
Conforme alle norme CE ---------
Stato visibile
Tipo di cliente Rivenditore
Attivo dal 2015
Offerte online 57
Ultima attività 29 Settembre 2023

Descrizione

Forno RTP ANNEALSYS AS-Micro del 2017 + pompa + computer

Condizione perfetta. Data del 2017.
Consegnato con:
- Pompa per vuoto e pompa di evacuazione Agilent IDP3A01
- controllare computer, software e codice utente.
- Manuale



L'AS-Micro è un processore termico da banco compatto da tre pollici con capacità di vuoto dedicato alle applicazioni di ricerca. Può lavorare substrati da pochi millimetri quadrati fino a 3 pollici di diametro o quadrato. Sono disponibili suscettori opzionali per contenere piccoli campioni e per processare substrati con basso assorbimento infrarosso.

La camera di lavorazione del tubo di quarzo con flange in acciaio inossidabile e un forno tubolare con lampade alogene a infrarossi consente di lavorare fino a 1250°C con velocità di rampa molto elevate (> 250°C/s). Il regolatore di temperatura all'avanguardia garantisce un controllo preciso della temperatura.

La porta a movimento orizzontale con vassoio in quarzo offre un facile accesso per il carico e lo scarico dei wafer e l'installazione della termocoppia.

Caratteristiche
Il forno offre la massima velocità di rampa fino a 250°C/s per wafer da 2".
Intervallo di temperatura: RT a 1250°C
Velocità di rampa fino a 250°C/s su substrato di silicio di 2 pollici di diametro, 200°C/s su substrato di 3 pollici.
Capacità di miscelazione del gas con controllori di flusso di massa
Intervallo di vuoto: da Atm a 10-2 Torr (10-6 Torr con pompa turbo opzionale)
Controllo della temperatura della termocoppia con regolatore di temperatura PID digitale veloce
Controllo completo del PC con software compatibile con Windows

per laboratorio di elettrochimica e nanomateriali semiconduttore/semiconduttore/wafer

Si avvisa che la descrizione puo´ esser stata tradotta automaticamente. Ci contatti per ulteriori informazioni. Le informazioni di questo annuncio classificato sono solo indicative. Exapro consiglia di verificare i dettagli con il venditore prima dell' acquisto

Specifiche tecniche

-------------------
Ore effettuate
Ore allacciato alla corrente
Condizione buono
Conforme alle norme CE ---------
Stato visibile

In merito a questo venditore

Tipo di cliente Rivenditore
Attivo dal 2015
Offerte online 57
Ultima attività 29 Settembre 2023

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